作為對(duì)光柵刻劃工藝的理論指導(dǎo)，提出了一種基于槽形函數(shù)擬合的機(jī)械刻劃光柵衍射特性分析方法,，解決了高刻線密度光柵衍射效率測量值與理論值偏差較大的問題．以刻線密度為1200 l／mm的紫外光柵為例,，對(duì)光柵主截面上的實(shí)際槽形縱橫坐標(biāo)掃描取值，進(jìn)而擬合出槽形函數(shù),，經(jīng)理論計(jì)算找到了導(dǎo)致衍射效率偏低的原因，并通過改進(jìn)工藝，使光柵衍射效率提高了約20％ ,。

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